资讯中心

News Center

您现在所在位置：首页 > 资讯中心 > 常见问题

氧化镓片表面粗糙度

氧化镓片表面粗糙度的理论值为小于1nm，但该测试值不作为出厂测试项。

2023-02-27 11:01:40

新客户报备流程

提供最终用途誓约书，个人简历（中文或英文）以及3篇论文

2023-02-27 10:33:04

氧化镓晶体生长炉可对应的生长方法

可对应EFG倒模提拉法/VB垂直布里奇曼法/FZ区熔法等

2023-02-27 11:02:49

钽罩是什么，有什么作用

钽罩是碳化硅晶体生长炉的关键部件，在PVT法、Gas法等晶体生长炉长晶时起到关键作用，可以有效提高晶体质量，减少晶体不良率，防止设备内部污染。

2023-02-27 11:07:13

氧化镓原料的纯度和形状

氧化镓原料为日本进口的高纯度原料，纯度为5N，形状是颗粒状

2023-02-27 11:17:50

氧化镓片收到后的第一步：清洗流程和注意事项

清洗流程Ga2O3 substrates wet cleaning flow —Novel

2023-02-27 11:19:28

氧化镓衬底和外延片的常规晶向、掺杂、尺寸以及切割介绍

001向Sn、UID—10mm×15mm、2inch、4inch。-201向Sn、UID—10mm×15mm、2inch。010向Sn、UID—10mm×15mm。

2023-02-27 10:59:06